综合各方消息，中国的EUV光刻机将会弯道超车，复刻新能源汽车的成功

综合各方消息，中国的euv将会弯道超车，复刻新能源汽车的成功，上的直接就是3nm 目标。

不是走 7nm  5nm 4nm 再到三的路线，而是一步到3nm

另外光源是直接使用同步辐射光源，不需要太多复杂的镜片，总体成本会比ASML的euv光刻机更便宜，更容易维护。

附：一个同步辐射光源SRL+自由电子激光FEL构建EUV光源的可能实现
2019年12月的Ryukou Kato的《Demonstration of high-repetition FEL using cERL and beyond EUV-FEL》

没有消息来源啊，虽然我知道长春光电所在光源上有突破，但是光刻机很多部件还没有消息呢

啊？

cy，看看预言是否成功

这玩意整出来了，可以撼动整个世界半导体格局。

听说今晚新闻联播？

啊？

然后呢？

不少人因此被骗看了新闻联播。

这是日本人的一篇文章，怎么就说明我们弯道超车了呢？[捂脸]