光刻机方面国产+创新， 我们朝超级巨型光刻机方向发展?苏联当年设想用过这个方案吗？

这个方向可以战胜荷兰光刻机

又让我想起来了，100万买一个房子，评估200万，抵押贷款140万。
1个月一次，3年世界首富。
可复制性极强的商业模式。

同步辐射的原理是，利用加速器将粒子束对撞，获得几乎所有频率的准直光束。其中的​同步辐射X射线吸收谱，是同步辐射中用的比较多的场景，是用于材料结构研究的最顶级和强力的工具之一。
同步辐射光源，全国目前也只有北京、上海、合肥各拥有一台，单台成本就要几十亿人民币，占地大于一个足球场。当然目前国内还有多个同步辐射光源在建。
同步辐射，用来加工芯片是很早就有的想法。我印象中几年前，上海同步辐射中心就有光刻室。只不过效率太低，成本太高，以前没人干这傻事。同时同步辐射光源的建设投入大、周期长，也来不及尝试更适用于芯片生产的结构。
但现在时代变了，一方面国内光刻机受国外制约，另一方面用于先进制程的euv光源成本同样高昂，一台euv光刻机也需要近十亿人民币。
同步辐射作为芯片光刻光源就变得有性价比起来，如果一个同步辐射光源可以同时为5到10台光刻机提供光源，那整体成本也并没有提高太多，也达到了可接受的程度。
更重要的是，euv光刻机如果想再进一步，是很难的。在原有的路径上，5年的时间或许就能吃完euv光刻机的全部潜力。而新的光源还遥遥无期。
目前芯片产业是打算用先进封装来维持芯片技术的进步，但同步辐射光源也提供了另外一种可能。
同步辐射光源不仅可以提供euv，甚至可以提供稳定且准直的频率更高的光，那么原来苦哈哈地研究频率更高的新光源，就变成了调节同步辐射操作台上的几个旋钮。只需要研究新的光刻胶，而不是彻彻底底的整个系统，就可以实现芯片制程的大幅提高。
这个idea的关键其实不是用同步辐射光源制造芯片，而是利用同步辐射装置同时为整个管线上的多台设备同时提供准直且频率可调的光源。这个方案是相当不错，而且有可行性的，真说不准会成为十年后先进制程芯片的主流生产方式。

如果是真的，那只能说真的是力大砖飞，弯道超车了

首先，这几天看的资料，我很多也不懂的地方，但是大概能看明白过程，这个超级巨型光刻机，目前还在建设验证生产线阶段。成不成还不一定（虽然我也很希望它可以）。很多东西，理论和实验室验证了，真的要按照实际规模建设了，很多困难是非线性产生和上升的。
这个方案解决的是光源问题。要刻芯片就要保证光精准度，大范围的控制直接在宏观层次上操控就行，不用考虑光本身的属性，太精细了就要考虑到量子领域的一些特点。通过电磁场精确地控制电子的振荡这个原理，作为为了磁共振特地学过半吊子电磁学的我还是能看个半懂不懂得，但是怎么约束大量得电子抱成团这个真看不懂了，但是能感觉到这个是用小型设备验证的。所以既然能够制造大型验证机了，那肯定是小设备得实验都做过了，目前考验的是大设备的精准度，再有就是各种其他工艺的困难度。
不过，真的希望它能成啊。如果落地了，开机的时候像死星一样发出强烈的巨型光束，然后无数的超前沿芯片从里面源源不断地走出来，那简直就是人类宇宙史诗一样的场景。


我如果是芯片人才，我现在就居家搬迁到中国大陆。不管是什么国籍什么皮肤什么信仰以前发表过什么言论，现在中国大陆才是我的家，中国人才是我的亲人。我就信仰中华文明伟大复兴和马克思列宁教员邓爷爷胡爷爷思想，谁也拦不住我想要叫这些人叫爷爷。
其次，如果真的成了，标志的不是“举国体制”和“土法炼钢”的胜利，而且也不完全是“规模效应”战胜了“先进技术”。本来建造这么一个巨型的加速器，用到的技术也是非常前沿的，按照苏联那种体制和科技发展水平，就算是思维实验想出来了，也没法落地。
就这么说吧，这个方案需要一个天才的构想团队，一个高端科研级别的核心部件设计团队，大量的优秀工程师和优秀的施工团队，制造这个产业链的国家必须有而且可以调动世界前沿的光学、材料、工业设计、电磁学科研团队。这种团队，全世界兼而有之的国家就那么寥寥几个。但是我不懂细节，所以我不清楚到底是几个：一个还两个三个。
很多回答里面说的征地困难、投入困难，反而不是问题的核心。如果实验论证了可以赚钱，不要低估了欧美日韩资本的能力。

苏联？
1961年，美国GCA制造出了第一台光刻机，其原始程度与今天的光刻机完全不可同日而语。
1970年，世界上首个准分子激光仪才刚刚诞生，没错，就在苏联诞生，准分子激光仪对光刻机的发展起到了重要作用。
1984年，光刻机发展20年后，利用各种科技组合而成的光刻机，直到这一年，商用精度终于达到了1微米，也就是1000纳米。
苏联，中国，日本，欧洲，美国，当时都有对应的设备，在1微米级别左右参差，都能造。
在这个时期，光刻机根本不需要巨型化，因为最终精度是微米级的，这种设备和激光仪器也不是什么天价产品，说难听一点，生产出一套设备来，想在哪建厂就在哪建厂，你搞再高功率的光源，其他技术跟不上也是白搭，那个年代也不可能会有超级巨型光刻机这种思路，因为你怎么搞也就是1微米精度，整个配套生产设备也就几吨重就能完成所有一系列的生产，你硬要集束更多的外延设备属于浪费，也没多少意义。。
然后吧，先说中国，80年代开始兴起造不如买风潮，80年代末到90年代初，无数科工人员纷纷出国留学然后就不回来了，原因也很简单，国外生活环境好，国内生活环境相对很差；同一时期大量外国品牌如丰本，大众，奔驰，3M，保洁，中美史克等等等等同时涌入中国，用资本买下我国大量传统品牌，瞬间摧毁了我国原有的轻重工业体系，并且催生买办思想，更加固化造不如买思维，并且最终出现美国的月亮就是圆的怪现象，于九十年代达到顶峰。
这个时期，中国的光刻机制造水准，彻底与欧美脱节。
苏联，光刻机制造进程停摆于1991年，而原来在计算机和半导体领域知名的苏联科学家，大多数都在这个特殊年代里来到欧美国家，继续光刻机研究，苏联崩解，一直到2000年后，俄罗斯才重启光刻机的研究，但是为时已晚。
从1991年到2006年以前，光刻机的生产进展还没能跳出原来的丘壑，说句实话，就那个时候的精度（153-197纳米）也根本没必要考虑什么巨型方案。
而直到我国研究巨型光刻机方案之前。。。。。
都不存在有其他国家正儿八经的讨论过这种方案，原因也很简单，他们的思想广度看不到这个方案，使用这种方案能带来什么好处？而且其实到今天为止的ASML最新型光刻机已经很臃肿了，搞一台最新设备就要运输几百吨重的机器，这已经足够笨重了，而中国的巨型化方案，基本是搞出来以后就焊死了，根本不可能挪动，想要复刻你只能是开新机器，老的方案只能是焊死在原地一动也不能动。。。。
而且，也只有在28NM或更高精度的光刻机设备上，才有了巨型化的可能性。
而且，我猜这方案的提出者，当初应该不是搞光刻机的，我严重怀疑这个设计方案是原来*****系统的人。
就像水电站的切割磁场原理，反正原理在那，谁转不是转呢？