综合各方消息,中国的EUV光刻机将会弯道超车,复刻新能源汽车的成功
综合各方消息,中国的euv将会弯道超车,复刻新能源汽车的成功,上的直接就是3nm 目标。不是走 7nm5nm 4nm 再到三的路线,而是一步到3nm
另外光源是直接使用同步辐射光源,不需要太多复杂的镜片,总体成本会比ASML的euv光刻机更便宜,更容易维护。
附:一个同步辐射光源SRL+自由电子激光FEL构建EUV光源的可能实现
2019年12月的Ryukou Kato的《Demonstration of high-repetition FEL using cERL and beyond EUV-FEL》
http://pic1.zhimg.com/v2-0d54b7f3e45ef5f2e5cdd03f0e29254c_r.jpg 没有消息来源啊,虽然我知道长春光电所在光源上有突破,但是光刻机很多部件还没有消息呢 啊? cy,看看预言是否成功 这玩意整出来了,可以撼动整个世界半导体格局。 听说今晚新闻联播? 啊? 然后呢? 不少人因此被骗看了新闻联播。 这是日本人的一篇文章,怎么就说明我们弯道超车了呢?[捂脸]