上海微电子：中国首款28纳米光刻机今年交付！
TechWire Asia援引《证券日报》的报道称，中国最成功的光刻机制造商上海微电子装备有限公司(SMEE)本周重申，计划在今年年底前交付其首款能够以28纳米级制造工艺生产芯片的国产光刻机。对于中国芯片产业来说，SMEE的SSA/800-10W光刻机是一个重大突破，因为该公司目前最先进的光刻设备只能实现90纳米级的制造工艺。随着时间的推移，支持28nm的光刻设备将使中国芯片制造商能够依靠国产光刻机来制造一系列成熟制程的芯片。
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此举意味着中国离实现半导体自给自足、减少对外国技术依赖这一宏大目标更近了一步，但问题依旧是SMEE是否可以大量稳定的生产这种光刻机，以及何时可以在中国的芯片厂内用此光刻机来替代ASML、佳能和尼康的机器。
最先进的EUV光刻机拥有超过45万个部件，比F1赛车的部件数量多20多倍。即使是在全球光刻机制造领域占据主导地位的ASML，也只能生产总组件的15%，其余的必须从全球供应链中采购。
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美国政府的最新出口规定，限制中国芯片企业获得生产14纳米以下非平面晶体管逻辑芯片、127层以上的3D NAND芯片、半间距小于18纳米的DRAM芯片所需的芯片设备和技术。今年早些时候，荷兰和日本的限制措施生效，进一步使中芯国际和长江存储等中国公司无法获得先进的设备。这些制裁措施阻碍了中国公司使用最新制造工艺研发和生产芯片的能力，特别是中芯国际的14nm/12nm和第二代7nm以及YMTC的128层和232层3D NAND。
因此，中国需要先进的国产光刻设备，以确保其芯片制造商能够以先进的工艺技术(如14nm)生产芯片。目前看来，上海微电子即将推出的28纳米SSA/800-10W光刻机将交付给中芯国际或一家芯片研究机构。然而，考虑到上海微电子在某种程度上仍依赖外国零部件，SMEE是否能批量交付这种机器仍有待观察。 再不成功饭碗就要被华为抢了 谁又在泄密？查查 不知道哪个更快，但华为非常开放，谁能做就让谁做[好奇]
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