kpyes
发表于 2023-9-12 10:00:35
根据光线可逆性，根据每台光刻机光学系统各自特点，为每台光刻机特制光刻掩膜板，这样可以大大减小对光学系统的制造要求，必将降低技术难度和成本，在计算机发达的今天制造特定的光刻掩模板难度应该很容易。自已没平台去验证了，这里只是大胆假设。
flzt120
发表于 2023-9-12 10:01:16
技术储备人才储备差了太多了
xjdata
发表于 2023-9-12 10:01:58
房地产在开发商手里。半导体政府是可以投。但是技术人才不是钱多就有的。就像母鸡下蛋，得先有蛋在肚子里，要不然你喂再多粮食，它也只是多拉几堆屎。
lhczyc
发表于 2023-9-12 10:02:04
这种技术不是有吗？
indianjohn
发表于 2023-9-12 10:02:15
感谢分享！
扇公子
发表于 2023-9-12 10:02:43
你这和9012年的理论如出一辙！
yomiko2004
发表于 2023-9-12 10:02:53
它是怎么做多层的？
taihom
发表于 2023-9-12 10:03:45
上海微电子是国内唯一一家光刻机主机公司
2z0y0z0
发表于 2023-9-12 10:04:14
您看好国产光刻机的发展吗？光刻机的曝光光学系统是否已经很成熟了
tjz001
发表于 2023-9-12 10:04:42
谢谢你的科普，真好，真希望你们公司能获得突破。虽然我是高中生，不太了解，也接触不到这些，但是有人愿意为爱发电去做这件事，无论结果怎样，都是很好的事。我也很想将来我们国家有机会去在某些方面获得突破呢，慢慢来吧